Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин
Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин
Страница 6

Типичные загрязнения

полупроводниковых пластин и их источники

Таблица 1.

Загрязнения

Возможные источники

Волокна (нейлон, целлюлоза и т. д.)

Одежда, ткани, бумажные изделия

Силикаты

Горные породы, песок, почва, зола, пепел

Окислы и окалина

Продукты окисления некоторых металлов

Масла и жиры

Масла от машинной обработки, отпечатки пальцев, жиры с открытых участков тела, средства для волос, мази, лосьоны

Силиконы

Аэрозоли для волос, кремы, лосьоны после бритья, лосьоны для рук, мыло

Металлы

Порошки и отходы машинной обработки и шлифовки; изготовление металлических частей; частицы из металлических банок для хранения и металлических контейнеров

Ионные примеси

Продукты дыхания, отпечатки пальцев (хлорид на­трия); примеси из очищающих растворов, содержащие ионные детергенты; некоторые флюсы; примеси от предварительной химической операции, такой, как травление или металлизация

Неионные примеси

Неионные детергенты, органические материалы для обработки

Растворимые примеси

Очищающие растворители и растворы

Страницы: 2 3 4 5 6 7 8 9 10

ТИССЕРАН (Тisserand) Франсуа (1845-96) , французский астроном, иностранный член-корреспондент Петербургской АН (1883). Труды по теории движения комет, проблеме устойчивости Солнечной системы и др. Автор капитального 4-томного руководства по небесной механике (1889-96).

ХОРЕЗМШАХ , титул правителя Хорезма (951-1220).

УРАНОВЫЕ РУДЫ . Главные минералы: уранинит (главным образом урановая смолка и урановая чернь), урановые слюдки. Различают первичные, окисленные и смешанные урановые руды. Супербогатые руды содержат св. 0,3% U, богатые 0,1-0,3%, рядовые 0,05-0,1%, убогие 0,03-0,05%. Мировые запасы ок. 2,3 млн. т (1990). Главные добывающие страны: Канада, ЮАР, США, Намибия, Нигер, Франция.