Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластинСтраница 13
Наиболее распространенными и эффективными способами жидкостной обработки в промышленных условиях являются ультразвуковая очистка в растворителях, химико-динамическое травление, анодно-механическое травление.
При ультразвуковой очистке (рис. 3) пластины 1 помещают в ванну с водой (эмульсией) 2, на которую передаются вибрации через вибратор 3 от генератора 4. Механические вибрации способствуют перемешиванию растворителя и тем самым ускоряют процесс.
Рис. 3
Принцип химико-динамического травления заключается в интенсивном перемешивании травителя непосредственно над поверхностью пластин (рис.4). При вращении приводом 1 фторопластового барабана 2 травитель 3 омывает пластины 4, закрепленные на специальном диске 5, чем достигается хорошее перемешивание травителя и равномерное травление.
Рис. 4
В основу анодно-механического травления положено электрохимическое травление, сопровождаемое механическим воздействием (рис. 5). Электролит 2 подается на освещенные мощной лампой 1 (для генерации дырок) пластины 3, которые предварительно закрепляются на аноде 4, и соприкасаются с вращающимся катодным диском 5, содержащим радиальные канавки. При этом скорость электрополировки достигает 400нм/с.
Рис. 5
Особый интерес с точки зрения производительности и качества очистки представляет способ, основанный на возникновении кавитации в пограничном слое очищаемой поверхности. Условия кавитации создают механическим путем (центрифугированием), а в качестве растворителя используют дистиллированную воду с растворенным кислородом.
Способы жидкостной очистки используют на различных стадиях изготовления ИМС.
4.3. Способы сухой очистки пластин и подложек.
Наряду с жидкостной обработкой в технологию изготовления ИМС в последнее время интенсивно внедряются различные способы сухой очистки. Наряду с традиционными термообработкой (отжигом) и газовым травлением успешно используют ионное и |плазмохимическое травление.
4.3.1. Термообработка.
Сущность термообработки состоит в нагреве пластины или подложки до температуры, при которой происходят удаление адсорбированных поверхностью загрязнений, разложение поверхностных загрязнений и испарение летучих соединений.
Отжиг осуществляют в вакуумных или термических установках непосредственно перед проведением основных операций формирования полупроводниковых или пленочных структур.
ЕВСТИГНЕЕВ Денис Евгеньевич (р . 1961), российский оператор и режиссер. Сын Е. А. Евстигнеева и Г. Б. Волчек. Операторские работы: "Осень, Чертаново" (1988), "Слуга" (1988), "Такси-блюз" (1990), "Армавир!" (1991), "Луна-парк" (1992) и др. В 1994 поставил фильм "Лимита", где создал групповой портрет своего поколения. С 1995 работает в области социальной телерекламы ("Русский проект").
РОЖДЕСТВЕНСКИЙ Василий Васильевич (1884-1963) , российский живописец. Член "Бубнового валета". Тонкие по цвету эмоциональные пейзажи, натюрморты, жанровые сцены.
ТАКТАШ (Такташев) Хади Хайруллович (1900/01-3 ..1), татарский поэт. Трагедии в стихах "Сыны земли" (192..1); лирика; в поэмах "Века и минуты" (1924), "Деревня Сыркыды" (1924), "Письма в грядущее" (1930-193..1). Драмы ("Утерянная красота", 1928 и др.), публицистика.