Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин
Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин
Страница 16

Ионы фтора, а в ряде случаев и радикал активно взаимодействуют с кремнием, образуя летучее соединение . Уравнения, характеризующие химические реакции травления кремния, оксида и нитрида кремния в плазме , имеют вид

(15)

Характерно, что частицы, участвующие в травлении, травят различные материалы с разной скоростью. На этом основано свойство плазмохимического травления. Скорость травления определяется концентрацией атомов фтора и постоянной скорости химической реакции :

(16)

Концентрация обусловливается скоростью генерации атомов, что определяется конструкцией и мощностью реактора, а также временем жизни частиц в реакторе, которое зависит от скорости газового потока, давления и условий рекомбинации частиц.

Скорость травления строго зависит от температуры; ее влияние предопределяется физическими свойствами травящегося материала и газовым составом плазмы. Так, добавка кислорода к чистой плазме повышает скорость травления.

В плазме фторсодержащих газов можно травить некоторые металлы. Для травления применяют также плазму хлорсодержащих газов. Для удаления органических материалов используют кислородную плазму.

Промышленные конструкции реакторов рассчитаны на групповую обработку пластин с кассетной загрузкой и программным управлением.

В отечественной промышленности для различных целей плазмохимической обработки кремниевых пластин используются автоматизированные реакторы «Плазма 600» (для удаления фоторезиста и очистки поверхности пластин при изготовлении биполярных ИМС) и «Плазма 600Т» (для удаления фоторезиста, очистки поверхности пластин и травления диэлектрических слоев). Плазмохимическое травление применяют также для локальной обработки поверхностей.

Способы сухой очистки пластин и локальной их обработки наиболее эффективны при создании БИС и СБИС на элементах с микронными и субмикронными размерами.

4.4. Типовые процессы очистки пластин и подложек.

Выбор способа очистки зависит от вида загрязнений. Эффективная очистка достигается при сочетании нескольких способов очистки. В качестве примера в таблице 2 приведены данные по использованию различных способов очистки в зависимости от вида загрязнений.

Таблица 2

Виды загрязнений и способы их удаления

Виды загрязнений

Способы очистки

Физические включения (пылинки, пух, небольшие частицы полупроводника, металла, абразива)

Растворение и одновременное ультразвуковое перемешивание

Загрязнения ионами (остатки кислот, осадки, получаемые при электролитическом покрытии, ионы металлов)

Промывка в деиониэованной или дистиллированной воде до установления постоянного сопротивления. Промывка в кислотах для удаления адсорбированных ионов. Ионная очистка

Минеральные жиры и органические материалы

Ультразвуковая промывка в нагретом органическом растворителе. Кипячение в органическом растворителе. Ионная очистка

Сложные химические включения (полярный органический материал, окислы, сернистые соединения)

Травление кислотами. Промывка кремниевых пластин в метиловом спирте

Загрязнения парами

Ионная очистка. Вакуумный отжиг. Термическое травление. Обработка в кислотах

Страницы: 12 13 14 15 16 17

УКАЗ , в ряде стран нормативный акт главы государства.

ТАДЖУТДИН (Чанка из Батлаича) (1867-1909) , аварский поэт. Один из зачинателей аварской литературы. Стихи обличительного характера, песни-плачи, любовная лирика.

ДИБ (Dib) Мухаммед (р . 1920), алжирский писатель. Пишет на французском языке. Тема социального и национального освобождения и становления Алжира в реалистической трилогии "Алжир" (1952-57), романах "Кто помнит о море" (1962), "Хозяин охоты" (1973). Влияние модернизма в романах "Танец короля" (1968), "Авель" (1977). Сборник поэм "Omneros" (1975). Рассказы, сказки.