Расчет распределения примесей в кремнии при кристаллизационной очистке и диффузионном легировании Расчет распределения примесей в кремнии при кристаллизационной очистке и диффузионном легированииСтраница 13
(19)
и
(20)
здесь запись erfc-1 обозначает аргумент z функции erfc.
При решении практических задач, связанных с анализом диффузионных процессов необходимо знать количество примеси Q, накопленной в твердом теле при диффузии в течение времени t. Эта величина определяется по формуле
(21)
где J(0,t) - поток диффузанта в объем через плоскость x=0
(22)
отсюда
(23)
Следует обратить внимание на возрастающее со временем значение накопленной в диффузионном слое примеси при диффузии с данными граничными условиями.
Рассмотренная модель диффузионного процесса с постоянным источником описывает процесс диффузионного легирования полупроводникового материала из газовой или паровой фазы. Этот процесс используется при создании сильно легированных диффузионных слоев (например, эмиттерных) с поверхностными концентрациями No близкими к значениям предельной твердой растворимости примеси в данном полупроводниковом материале.
Твердое тело можно считать полубесконечным ( или бесконечным) в том случае, если его размеры в направлении движения диффузанта много больше длины диффузии.
1.3.3 Распределение примеси при диффузии из слоя конечной толщины (диффузия из ограниченного источника) в полубесконечное тело с отражающей границей.
Диффундирующая примесь поступает в полубесконечное тело из источника, который представляет собой примыкающий к границе тела слой толщиной h, примесь в котором распределена равномерно. Такой источник называют ограниченным. Концентрация примеси в источнике - No. Полагается, что в принимающем диффузант твердом теле нет рассматриваемой примеси.
При абсолютно непроницаемой для диффузанта (отражающей) границе поток примеси через поверхность x=0 должен обращаться в нуль при всех t ³0
для t ³0 (24)
НГУЕНЫ , в 1558-1802 правящий род на территории Центр. и Юж. Вьетнама, в 1802-1945 имп. династии Вьетнама (с 1884 правление под французским протекторатом).
ЖЕГИН (наст . фам. Шехтель) Лев Федорович (1892-1969), российский художник и теоретик искусств. Сын Ф. О. Шехтеля. Активный член общества "Маковец". В своей живописи и графике предпочитал простые пейзажные и жанровые мотивы в духе "тихого искусства", насыщая их философски созерцательным настроением. Занимался также исследованием формально-композиционных основ древнерусского искусства (книга "Язык живописного произведения", 1970).
ЗАХАРОВ Матвей Васильевич (1898-1972) , Маршал Советского Союза (1959), дважды Герой Советского Союза (1945, 1971). В Великую Отечественную войну начальник штаба армии, Калининского, Степного, 2-го Украинского и Забайкальского фронтов. В 1945-49 и 1963-64 начальник Военной академии Генштаба, в 1949-52 заместитель начальника Генштаба, в 1957-60 главнокомандующий Группой советских войск в Германии. В 1960-63 и 1964-71 начальник Генштаба - 1-й заместитель министра обороны СССР.